等離子清洗機(jī)的頻率有40KHZ，13.56MHz，2.45GHz這幾種，它采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。

　　等離子體裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來(lái)愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來(lái)愈長(zhǎng)，受電場(chǎng)作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這時(shí)會(huì)發(fā)出輝光，故稱(chēng)為輝光放電處理。輝光放電時(shí)的氣壓大小對(duì)材料處理效果有很大影響，另外與放電功率，氣體成分及流動(dòng)速度、材料類(lèi)型等因素有關(guān)。

　　等離子清洗機(jī)在使用中的注意事項(xiàng)有以下幾點(diǎn)：

　　1、不能用這種方法除去物體表面的切削粉末，這點(diǎn)在清洗金屬表面油垢時(shí)表現(xiàn)尤為顯著。

　　2、在運(yùn)用進(jìn)程中還發(fā)現(xiàn)不能用等離子體清洗很好除去表面粘附的指紋，而指紋是玻璃光學(xué)元件上常呈現(xiàn)的一種污染物。等離子體清洗也不*不能用于出去指紋，但這需求延伸處理時(shí)間，這時(shí)又不得不考慮到這會(huì)對(duì)基材的功用構(gòu)成不良的影響。所以還需求選用其他清洗方法進(jìn)行預(yù)處理相配合。

　　3、實(shí)踐證明不能用它清楚很厚的油污，盡管用等離子體清洗少數(shù)附著在物體表面的油垢有很好的作用，但是對(duì)厚油垢的鏟除作用往往欠安，一方面用它鏟除油膜，有必要延伸處理時(shí)間，使清洗的本錢(qián)大大提高，另一方面有可能是它在與厚油垢彼此觸摸的進(jìn)程中，引發(fā)油垢分子結(jié)構(gòu)中的不飽和鍵發(fā)生了聚合，偶聯(lián)等雜亂反響而構(gòu)成較穩(wěn)固的樹(shù)脂化立體網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)有關(guān)。一旦構(gòu)成這類(lèi)樹(shù)脂膜他將很難被鏟除。因而一般只用等離子體清洗厚度在幾個(gè)微米以下的油污。

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