小型等離子去膠機(jī)是現(xiàn)代微電子制造過(guò)程中不可少的設(shè)備之一，主要用于清除半導(dǎo)體晶片、液晶顯示器、電子器件等表面的光刻膠及其他有機(jī)聚合物殘留。
1.基本原理
-概述：主要利用氧氣或其他氣體在微波能量的作用下電離形成等離子體。這種等離子體富含高能活性粒子，這些粒子與光刻膠等有機(jī)物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，將其轉(zhuǎn)化為易揮發(fā)的簡(jiǎn)單無(wú)機(jī)化合物如水蒸氣和二氧化碳，從而實(shí)現(xiàn)去除目的。
-反應(yīng)過(guò)程：工作氣體(通常是氧氣)被激發(fā)成等離子態(tài)，這些等離子體中的活性粒子與固體表面(如半導(dǎo)體晶片)上的有機(jī)聚合物接觸，通過(guò)高能粒子的物理沖擊和化學(xué)反應(yīng)，使有機(jī)物分解并轉(zhuǎn)化為氣體分子，從真空系統(tǒng)中被抽走。
2.應(yīng)用場(chǎng)景
-半導(dǎo)體制造：在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，小型等離子去膠機(jī)用于去除晶片表面的光刻膠，為后續(xù)的擴(kuò)散、蝕刻或其他處理步驟做準(zhǔn)備。這是半導(dǎo)體制造過(guò)程中非常關(guān)鍵的清潔步驟，確保電路圖案的準(zhǔn)確轉(zhuǎn)移和芯片性能的可靠性。
-光電器件制備：在液晶顯示(LCD)制備或者其他光電器件的生產(chǎn)過(guò)程中，去除多余光刻膠也是必須的步驟。小型等離子去膠機(jī)能夠高效地完成這一任務(wù)，提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。
3.技術(shù)優(yōu)勢(shì)
-高效率：與傳統(tǒng)的濕法去膠相比，能夠在較短的時(shí)間內(nèi)完成大量材料的處理，大幅提升生產(chǎn)效率。
-環(huán)保性：由于整個(gè)去膠過(guò)程不涉及化學(xué)溶劑，因此更加環(huán)保。同時(shí)，產(chǎn)生的廢氣較易處理，對(duì)環(huán)境的影響小。
4.潛在局限性
-材料選擇性：不是所有的光刻膠都適合用氧等離子去膠機(jī)處理，比如一些厚度較大或化學(xué)穩(wěn)定性高的光刻膠如SU-8、PI等，可能需要添加氟基氣體來(lái)提高去膠效率。
-成本問(wèn)題：盡管小型等離子去膠機(jī)的原理和效果都非常先進(jìn)，但其初期投資和維護(hù)成本相對(duì)較高，可能不適合所有生產(chǎn)線(xiàn)。
更新時(shí)間：2024-08-07
點(diǎn)擊次數(shù)：1843
當(dāng)前位置：
