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產(chǎn)品中心

Product Center

當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD桌面式小型濺射儀

桌面式小型濺射儀

產(chǎn)品簡介

桌面式小型濺射儀KT-Z1650PVD磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積(PVD)的方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好,成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點(diǎn)。

產(chǎn)品型號:KT-Z1650PVD
更新時間:2024-03-27
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:1381
詳細(xì)介紹在線留言
品牌鄭科探濺射氣體根據(jù)需求通氣
樣品臺尺寸50mm控制方式觸摸屏智能控制
樣品倉尺寸φ160x160mm靶材尺寸50mm
靶材材質(zhì)金 鉑 銅 銀 等價格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域化工,電氣

桌面式小型濺射儀KTZ1650PVD

傳統(tǒng)的濺射技術(shù)的工作原理是:在高真空的條件下,入射離子(Ar+)在電場的作用下轟擊靶材,使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動能脫離靶材表面,沉積在基片表面形成薄膜。但是,電子會受到電場和磁場的作用,產(chǎn)生漂移,因而導(dǎo)致傳濺射效率低,電子轟擊路徑短也會導(dǎo)致基片溫度升高,為了提高濺射效率,在靶下方安裝強(qiáng)磁鐵,中央和周圈分別為NS極。電子由于洛倫茲力的作用被束縛在靶材周圍,并不斷做圓周運(yùn)動,產(chǎn)生更多的Ar+轟擊靶材,大幅提高濺射效率,如圖所示,采用強(qiáng)磁鐵控制的濺射稱為磁控濺射。

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桌面式小型濺射儀KTZ1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù);

控制方式

7寸人機(jī)界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口



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